FT-ICRによるシリコンクラスターイオン(Sin〔+〕,n=10-30)の化学吸着特性の検討

• 丸山 茂夫

• 井上 修平

• 河野 正道

書誌事項

タイトル別名

• FT ICR ニ ヨル シリコンクラスターイオン Sin n 10 30 ノ カガク キュウチャク トクセイ ノ ケントウ

抄録

資料形態 : テキストデータ プレーンテキスト

収録刊行物

• 東京大学工学部総合試験所年報

  東京大学工学部総合試験所年報 (58), 225-229, 2000-01

  東京 : 東京大学工学部総合試験所

詳細情報

• CRID: 1520572357950470016
• NII論文ID: 40004086495
• NII書誌ID: AN0013422X
• ISSN: 03713067
• NDL書誌ID: 5322896
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I5322896
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZM2(科学技術--科学技術一般--大学・研究所・学会紀要)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles