プラズマ化学気相堆積法によるハフニウムシリケート膜の堆積

• 加藤 宙光

• 宮川 武

• 南向 智広

書誌事項

タイトル別名

• プラズマ カガク キソウ タイセキホウ ニ ヨル ハフニウムシリケート マク ノ タイセキ

収録刊行物

• 放電研究 : 放電学会誌

  放電研究 : 放電学会誌 44 (1・2), 69-73, 2001-06

  東京 : 放電学会

キーワード

• plasma-enhanced chemical vapor deposition
• high-permittivity dielectric film
• silicate
• hafnium silicate

詳細情報

• CRID: 1520290883181966336
• NII論文ID: 40004596492
• NII書誌ID: AN00368945
• ISSN: 09118713
• NDL書誌ID: 5894084
• Web Site: http://id.ndl.go.jp/bib/5894084
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I5894084
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZM35(科学技術--物理学)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles