超高感度厚膜レジストの新規開発

• 坂井 信支

• 内海 裕一

• 服部 正

書誌事項

タイトル別名

• チョウコウカンド コウマク レジスト ノ シンキ カイハツ
• 特集 微細加工技術
• トクシュウ ビサイ カコウ ギジュツ

収録刊行物

• 日本設備管理学会誌 = Journal of the Society of Plant Engineers Japan / 日本設備管理学会編集事務局 編

  日本設備管理学会誌 = Journal of the Society of Plant Engineers Japan / 日本設備管理学会編集事務局 編 16 (1), 15-19, 2004-05

  名古屋 : 日本設備管理学会

キーワード

• LIGAプロセス
• X線リソグラフィ
• UVリソグラフィ
• 化学増幅システム
• 感度
• LIGA process
• X-ray lithography
• UV lithography
• chemical amplify system
• photosensitivity

詳細情報

• CRID: 1522262180565676672
• NII論文ID: 40006312921
• NII書誌ID: AN10544501
• ISSN: 09155023
• NDL書誌ID: 7011044
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I7011044
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZD25(経済--企業・経営--経営管理)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles