Adsorption Behavior of (CH3)2S on Rh(100) Studied by Sulfur K-Edge NEXAFS and XPS

• T. Nomoto

• S. Yagi

• G. Kutluk

書誌事項

タイトル別名

• Adsorption Behavior of CH3 2S on Rh 100 Studied by Sulfur K Edge NEXAFS and XPS

収録刊行物

• Journal of surface analysis / 表面分析研究会 編

  Journal of surface analysis / 表面分析研究会 編 12 (2), 238-243, 2005-03

  東京 : 表面分析研究会

詳細情報

• CRID: 1522543655106387072
• NII論文ID: 40007162378
• NII書誌ID: AA11448771
• ISSN: 13411756
• NDL書誌ID: 7835579
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I7835579
• 本文言語コード: en
• NDL 雑誌分類:
  • ZM35(科学技術--物理学)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles