Study of Hafnium Related Oxide Thin Films for Advanced Gate Dielectrics Using Surface Analysis

• Makoto Nakamura

• Akihiro Tanaka

• David G. Watson

収録刊行物

• Journal of surface analysis / 表面分析研究会 編

  Journal of surface analysis / 表面分析研究会 編 12 (2), 263-266, 2005-03

  東京 : 表面分析研究会

詳細情報

• CRID: 1520010380558454528
• NII論文ID: 40007162383
• NII書誌ID: AA11448771
• ISSN: 13411756
• NDL書誌ID: 7835665
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I7835665
• 本文言語コード: en
• NDL 雑誌分類:
  • ZM35(科学技術--物理学)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles