ゾル-ゲル法による酸化物半導体薄膜の合成と応用
書誌事項
- タイトル別名
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- ゾル ゲルホウ ニ ヨル サンカブツ ハンドウタイ ハクマク ノ ゴウセイ ト オウヨウ
- 特集/ゾル-ゲル法による技術開発の展望
- トクシュウ ゾル ゲルホウ ニ ヨル ギジュツ カイハツ ノ テンボウ
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収録刊行物
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- 化學工業
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化學工業 57 (12), 895-900, 2006-12
東京 : 小峰工業出版
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1520573330541343104
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- NII論文ID
- 40015186163
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- NII書誌ID
- AN00037245
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- ISSN
- 04512014
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- NDL書誌ID
- 8581472
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZP1(科学技術--化学・化学工業)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles