パルスレーザー堆積法による複酸化物薄膜のエピタキシー

• 大西 剛

書誌事項

タイトル別名

• パルス レーザー タイセキホウ ニ ヨル フクサンカブツ ハクマク ノ エピタキシー
• Epitaxial growth of complex oxide thin films by pulsed laser deposition
• 特集 高品質エピタキシャル薄膜の作製・デバイス化
• トクシュウ コウヒンシツ エピタキシャル ハクマク ノ サクセイ デバイスカ

収録刊行物

• 機能材料

  機能材料 28 (3), 6-14, 2008-03

  東京 : シーエムシー出版

詳細情報

• CRID: 1520573331037284736
• NII論文ID: 40015848493
• NII書誌ID: AN00360069
• ISSN: 02864835
• NDL書誌ID: 9366075
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I9366075
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZM16(科学技術--科学技術一般--工業材料・材料試験)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles