Non-contact wafer fabrication process using gas cluster ion beams

• 豊田 紀章

• 磯貝 宏道

• 山田 公

書誌事項

タイトル別名

• Non contact wafer fabrication process using gas cluster ion beams

収録刊行物

• 兵庫県立大学工学研究科イオン工学研究室論文集 = Annual report of Ion Beam Engineering Laboratory, University of Hyogo

  兵庫県立大学工学研究科イオン工学研究室論文集 = Annual report of Ion Beam Engineering Laboratory, University of Hyogo 2009年度 82-84, 2009

  姫路 : 兵庫県立大学工学研究科イオン工学研究室

キーワード

• Gas cluster ion
• reactive sputtering
• location specific processing
• wafer process

詳細情報

• CRID: 1520572359797770496
• NII論文ID: 40017412546
• NDL書誌ID: 10917864
• Web Site: http://id.ndl.go.jp/bib/10917864
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I10917864
• 本文言語コード: en
• NDL 雑誌分類:
  • ZP5(科学技術--化学・化学工業--化学工学)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles