Reactive Ion Etching Texturing for Multicrystalline Silicon Solar Cells Using a SF₆/O₂/Cl₂ Gas Mixture

• Kwang Mook Park

• Myoung Bok Lee

• Kyeong Su Jeon

書誌事項

タイトル別名

• Special Issue : Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices : TFT Technologies and FPD Materials

収録刊行物

• Japanese journal of applied physics : JJAP

  Japanese journal of applied physics : JJAP 52 (3), 2013-03

  Tokyo : The Japan Society of Applied Physics

詳細情報

• CRID: 1520572358460705920
• NII論文ID: 40019616881
• NII書誌ID: AA12295836
• ISSN: 00214922
• NDL書誌ID: 024357770
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I024357770
• 本文言語コード: en
• NDL 雑誌分類:
  • ZM35(科学技術--物理学)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles