プラズマ励起原子層堆積法による室温酸化ハフニウム成膜

• 鹿又 健作

• 大場 尚志

• 有馬 ボシール アハンマド

書誌事項

タイトル別名

• プラズマレイキゲンコソウ タイセキホウ ニ ヨル シツオン サンカ ハフニウムセイマク
• Fabrication of hafnium oxide using room-temperature atomic layer deposition
• 電子デバイス
• デンシ デバイス

収録刊行物

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 114 (12), 51-54, 2014-04

  東京 : 電子情報通信学会

キーワード

• 原子層堆積
• HfO₂
• プラズマ励起酸素・水蒸気
• 赤外吸収分光法
• ALD
• TEMAH
• Plasma-excited H₂O and O₂
• MIR-IRAS

詳細情報

• CRID: 1520290883778718720
• NII論文ID: 110009875012
• NII書誌ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL書誌ID: 025445785
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I025445785
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles