UV ナノインプリントと異方性ウェットエッチングの組み合わせによるナノスケール極微細構造の作製

• 桑江 博之

• 岡田 愛姫子

• 笠原 崇史

書誌事項

タイトル別名

• UV ナノインプリント ト イホウセイ ウェットエッチング ノ クミアワセ ニ ヨル ナノスケールキョク ビサイ コウゾウ ノ サクセイ
• Fabrication of Fine Nanoscale Structures Using Combination of UV Nanoimprint Lithography and Anisotropic Wet Etching

収録刊行物

• 「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム論文集 電気学会センサ・マイクロマシン部門 [編]

  「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム論文集 電気学会センサ・マイクロマシン部門 [編] 31 1-4, 2014-10

  [東京] : Institute of Electrical Engineers of Japan

キーワード

• UVナノインプリント
• Si異方性ウェットエッチング
• 次世代パターニング技術
• V字溝
• UV nanoimprint lithography
• Silicon anisotropic wet etching
• Next generation lithography
• V-groove

詳細情報

• CRID: 1520853832228788352
• NII論文ID: 40020266558
• NDL書誌ID: 025916478
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I025916478
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles