AN OPTIMIZATION TOOL FOR 3D LITHOGRAPHY UTILIZING DMD-BASED MASKLESS EXPOSURE SYSTEM

• Xiaoxu Ma

• Yoshiki Kato

• Yoshikazu Hirai

収録刊行物

• 「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム論文集 電気学会センサ・マイクロマシン部門 [編]

  「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム論文集 電気学会センサ・マイクロマシン部門 [編] 31 5p-, 2014-10

  [東京] : Institute of Electrical Engineers of Japan

キーワード

• 3D microstructuring
• DMD maskless lithography
• Optimization
• Lithography simulation
• Thick photoresist
• Fast Marching Method

詳細情報

• CRID: 1520009407729325056
• NII論文ID: 40020266760
• NDL書誌ID: 025916771
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I025916771
• 本文言語コード: en
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles