チタニウムウェハの貫通加工のための熱反応性イオンエッチング法の開発

• 山田 周史

• 南 佑人

• 寒川 雅之

書誌事項

タイトル別名

• チタニウムウェハ ノ カンツウ カコウ ノ タメ ノ ネツ ハンノウセイ イオンエッチングホウ ノ カイハツ
• Thermal reactive ion etching for etching through titanium wafer

収録刊行物

• 「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム論文集 電気学会センサ・マイクロマシン部門 [編]

  「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム論文集 電気学会センサ・マイクロマシン部門 [編] 31 1-4, 2014-10

  [東京] : Institute of Electrical Engineers of Japan

キーワード

• チタニウム
• 反応性イオンエッチング
• フッ素系ガス
• 深掘り反応性イオンエッチング
• 難加工材
• titanium
• reactive ion etching
• fluoride gas
• deep reactive ion etching
• hard-to-etch material

詳細情報

• CRID: 1520009407229285120
• NII論文ID: 40020270144
• NDL書誌ID: 025922812
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I025922812
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles