プラズマ励起法を用いた室温原子層堆積法によるZrO₂の試作と評価

• 野老 健太郎

• 鹿又 健作

• 三浦 正範

• 有馬 ボシール アハンマド

• 久保田 繁

• 廣瀬 文彦

書誌事項

タイトル別名

• プラズマレイキホウ オ モチイタ シツオン ゲンシソウ タイセキホウ ニ ヨル ZrO ₂ ノ シサク ト ヒョウカ
• Room-temperature atomic layer deposition of zirconium oxide using plasma-excited water vapor
• 電子デバイス
• デンシ デバイス

収録刊行物

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 116 (14), 47-50, 2016-04

  東京 : 電子情報通信学会

キーワード

• 原子層堆積
• ZrO₂
• プラズマ励起法
• 赤外吸収分光法
• Atomic layer deposition
• Plasma excited method
• MIR-IRAS

詳細情報

• CRID: 1520009407540444288
• NII論文ID: 40020819534
• NII書誌ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL書誌ID: 027289115
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I027289115
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles