フォトリソグラフィとUVキュア処理によるナノギャップ電極形成

• 粂内 真子

• 熊谷 慎也

• 趙 享峻

• 今井 駿

• 近藤 博基

• 石川 健治

• 堀 勝

• 佐々木 実

書誌事項

タイトル別名

• フォトリソグラフィ ト UV キュア ショリ ニ ヨル ナノギャップ デンキョク ケイセイ
• Nano-Gap Electrode Realized by Photolithography Combined with UV Curing Processing

収録刊行物

• 「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム論文集 電気学会センサ・マイクロマシン部門 [編]

  「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム論文集 電気学会センサ・マイクロマシン部門 [編] 32 1-4, 2015-10

  [東京] : Institute of Electrical Engineers of Japan

キーワード

• ナノギャップ電極
• UVキュア処理
• フォトリソグラフィ
• Nano-gap electrode
• UV curing
• Photolithography

詳細情報

• CRID: 1520009407230425728
• NII論文ID: 40020857090
• NDL書誌ID: 027433408
• Web Site: http://id.ndl.go.jp/bib/027433408
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I027433408
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles