非晶質InGaZnO薄膜の熱電特性評価

• 多和 勇樹

• 上沼 睦典

• 藤本 裕太

• 瀬名波 大貴

• 石河 泰明

• 浦岡 行治

書誌事項

タイトル別名

• ヒショウシツ InGaZnO ハクマク ノ ネツデントクセイ ヒョウカ
• Thermoelectric Properties of amorphous-InGaZnO Thin Film
• シリコン材料・デバイス
• シリコン ザイリョウ ・ デバイス

収録刊行物

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 116 (355), 71-74, 2016-12-12

  東京 : 電子情報通信学会

キーワード

• 非晶質InGaZnO
• 熱電変換素子
• 膜厚依存性
• アニール
• amorphous-InGaZnO
• Thermoelectric
• Film thickness dependence
• Anneal

詳細情報

• CRID: 1520009407162465792
• NII論文ID: 40021059720
• NII論文ID: 40021059164
• NII書誌ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL書誌ID: 027842095
• NDL書誌ID: 027841289
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I027842095
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I027841289
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles