プラズマエッチングによるマイクロ流体チップ用チタン製微細金型製造技術の開発

• 人母 岳

  立山マシン(株)

• 城木 正博

  (株)リッチェル

• 鍋澤 浩文

  富山県工業技術センター

• 浅地 豊久

  富山高等専門学校

• 安部 隆

  新潟大学大学院

書誌事項

タイトル別名

• Development of Titanium Micro Mold Manufacturing Technology for the Microfluidic Chip by Plasma Etching
• プラズマエッチング ニ ヨル マイクロ リュウタイ チップヨウ チタンセイ ビサイ カナガタ セイゾウ ギジュツ ノ カイハツ

抄録

　This paper describes the microfabrication of titanium micro molds for the microfluidic chip by a reactive ion etching (RIE) system. The etching was carried out using SF₆ plasma. We have examined the etching rate and surface roughness at the range of process pressure 0.3-0.7 Pa and RF (13.56 MHz radio-frequency) power 30-70 W. The etching rate is over 0.3 μm/min at the RF power of 70 W. The surface roughness of etched substrates is below 40 nm at the process pressure of 0.3 Pa. We made a titanium micro mold and molded microfluidic chips by using polycarbonate, and microresico^® (Polypropylene resin).<br>

収録刊行物

• Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ｖａｃｕｕｍ　Ｓｏｃｉｅｔｙ　ｏｆ　Ｊａｐａｎ

  Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ｖａｃｕｕｍ　Ｓｏｃｉｅｔｙ　ｏｆ　Ｊａｐａｎ 60 (4), 145-147, 2017

  一般社団法人 日本真空学会

キーワード

• Spectroscopy
• Surfaces and Interfaces
• Instrumentation
• General Materials Science

詳細情報

• CRID: 1390282680272603008
• NII論文ID: 130006900190
• NII書誌ID: AA12298652
• DOI: 10.3131/jvsj2.60.145
• ISSN: 18824749
• ISSN: 18822398
• NDL書誌ID: 028157440
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I028157440
• Web Site: https://www.jstage.jst.go.jp/article/jvsj2/60/4/60_16-PR-082/_pdf
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可