依頼講演 HfO強誘電体薄膜を用いたトンネル接合メモリ(FTJ)の動作実証

• 山口 まりな

• 藤井 章輔

• 上牟田 雄一

• 井野 恒洋

• 高石 理一郎

• 中崎 靖

• 齋藤 真澄

書誌事項

タイトル別名

• イライ コウエン HfO キョウ ユウデンタイ ハクマク オ モチイタ トンネル セツゴウ メモリ(FTJ)ノ ドウサ ジッショウ
• Demonstration of HfO₂-Based Ferroelectric Tunnel Junction (FTJ)
• 集積回路
• シュウセキ カイロ

収録刊行物

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 117 (9), 85-88, 2017-04

  東京 : 電子情報通信学会

キーワード

• Ferroelectric Tunnel Junction
• FTJ
• HfO₂

詳細情報

• CRID: 1520290882622452224
• NII論文ID: 40021187959
• NII書誌ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL書誌ID: 028167232
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I028167232
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles