GaN基板のプラズマ融合CMP技術 : エタノールバブリング・Arプラズマを用いたプラズマ融合CMP特性とその評価

• 山崎 直樹

• 土肥 俊郎

• 曾田 英雄

• 金 聖祐

• 大山 幸希

• 黒河 周平

• 佐野 泰久

• 白谷 正治

• 山西 陽子

書誌事項

タイトル別名

• GaN キバン ノ プラズマ ユウゴウ CMP ギジュツ : エタノールバブリング ・ Ar プラズマ オ モチイタ プラズマ ユウゴウ CMP トクセイ ト ソノ ヒョウカ
• Plasma fusion CMP technology for GaN substrates : Evaluation of processing characteristics for plasma fusion CMP using Ar plasma and ethanol bubbling
• 有機エレクトロニクス
• ユウキ エレクトロニクス

収録刊行物

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 117 (8), 19-23, 2017-04

  東京 : 電子情報通信学会

キーワード

• プラズマ融合CMP
• P-CVM
• CMP
• GaN
• Arプラズマ
• バブリング法
• アーク放電
• グロー放電
• Plasma fusion CMP
• Ar plasma
• Bubbling method
• Arc discharge
• Glow discharge

詳細情報

• CRID: 1520009407541076224
• NII論文ID: 40021187920
• NII論文ID: 40021188068
• NII書誌ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL書誌ID: 028167354
• NDL書誌ID: 028167189
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I028167354
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I028167189
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles