Stepped Micro-Trenches Fabricated by Deep Reactive Ion Etching and Soft Resist Masks Combined with UV Curing

• Che-Wei Hsu

• Ryoto Sato

• Shinya Kumagai

• Minoru Sasaki

Journal

• 「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム論文集 電気学会センサ・マイクロマシン部門 [編]

  「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム論文集 電気学会センサ・マイクロマシン部門 [編] 33 1-4, 2016-10

  [東京] : Institute of Electrical Engineers of Japan

Keywords

• Stepped micro-trenches
• Superconducting magnetic energy storage (SMES)
• Smoothening sidewall scallop

Details

• CRID: 1520290883902690304
• NII Article ID: 40021216253
• NDL BIB ID: 028223689
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I028223689
• Text Lang: en
• NDL Source Classification:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• Data Source:
  • NDL
  • CiNii Articles