基質の吸着状態を利用する高選択的反応 キシツノキュウチャクジョウタイオリヨウスルコウセンタクテキセンタク

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著者

    • 小川, 治雄 オガワ, ハルオ

書誌事項

タイトル

基質の吸着状態を利用する高選択的反応

タイトル別名

キシツノキュウチャクジョウタイオリヨウスルコウセンタクテキセンタク

著者名

小川, 治雄

著者別名

オガワ, ハルオ

学位授与大学

神戸大学

取得学位

理学博士

学位授与番号

乙第984号

学位授与年月日

1985-09-27

注記・抄録

博士論文

4アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000005352
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000005352
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000000169666
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL ONLINE
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