基質の吸着状態を利用する高選択的反応

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著者

    • 小川, 治雄 オガワ, ハルオ

書誌事項

タイトル

基質の吸着状態を利用する高選択的反応

著者名

小川, 治雄

著者別名

オガワ, ハルオ

学位授与大学

神戸大学

取得学位

理学博士

学位授与番号

乙第984号

学位授与年月日

1985-09-27

注記・抄録

博士論文

3アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000005352
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000005352
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000000169666
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
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