CVD法およびプラズマCVD法によるSi系絶縁薄膜形成法の研究

この論文をさがす

著者

    • 前田, 正彦 マエダ, マサヒコ

書誌事項

タイトル

CVD法およびプラズマCVD法によるSi系絶縁薄膜形成法の研究

著者名

前田, 正彦

著者別名

マエダ, マサヒコ

学位授与大学

北海道大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第3076号

学位授与年月日

1986-09-30

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000006430
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000006430
  • NDL書誌ID
    • 000000170744
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
ページトップへ