高周波スパッタリングによる薄膜形成とMOS素子への応用に関する研究
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Author
Bibliographic Information
- Title
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高周波スパッタリングによる薄膜形成とMOS素子への応用に関する研究
- Author
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谷内, 利明
- Author(Another name)
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ヤチ, トシアキ
- University
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静岡大学
- Types of degree
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工学博士
- Grant ID
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乙第14号
- Degree year
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1986-09-30
Note and Description
博士論文
doctoral
電子科学研究科
乙第14号