サファイア上及び酸素イオン注入により形成した絶縁層上のシリコン薄膜の評価に関する研究

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著者

    • 林, 孝好 ハヤシ, タカヨシ

書誌事項

タイトル

サファイア上及び酸素イオン注入により形成した絶縁層上のシリコン薄膜の評価に関する研究

著者名

林, 孝好

著者別名

ハヤシ, タカヨシ

学位授与大学

名古屋大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第2882号

学位授与年月日

1985-08-01

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000011251
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000011258
  • NDL書誌ID
    • 000000175565
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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