高臨界温度・準安定超伝導薄膜の形成・応用に関する研究

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著者

    • 寺田, 教男 テラダ, ノリオ

書誌事項

タイトル

高臨界温度・準安定超伝導薄膜の形成・応用に関する研究

著者名

寺田, 教男

著者別名

テラダ, ノリオ

学位授与大学

東京工業大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

甲第1629号

学位授与年月日

1985-03-26

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000011520
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000011527
  • NDL書誌ID
    • 000000175834
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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