超LSI化されたSi素子の基礎プロセスに関する研究

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著者

    • 宇田, 啓一郎 ウダ, ケイイチロウ

書誌事項

タイトル

超LSI化されたSi素子の基礎プロセスに関する研究

著者名

宇田, 啓一郎

著者別名

ウダ, ケイイチロウ

学位授与大学

大阪府立大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第471号

学位授与年月日

1985-07-30

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000019757
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000019779
  • NDL書誌ID
    • 000000184071
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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