シリコン集積回路における熱酸化膜に関する研究

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著者

    • 山部, 紀久夫 ヤマベ, キクオ

書誌事項

タイトル

シリコン集積回路における熱酸化膜に関する研究

著者名

山部, 紀久夫

著者別名

ヤマベ, キクオ

学位授与大学

大阪大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第4213号

学位授与年月日

1987-07-28

注記・抄録

博士論文

07838

博士(工学)

1987-07-28

大阪大学

14401第12345号

1アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000021752
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000021777
  • NDL書誌ID
    • 000000186066
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
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