A15型ニオブ・ゲルマニウム系およびニオブ・ケイ素系超伝導薄膜の作製に関する研究

この論文をさがす

著者

    • 中村, 貴幸 ナカムラ, キコウ

書誌事項

タイトル

A15型ニオブ・ゲルマニウム系およびニオブ・ケイ素系超伝導薄膜の作製に関する研究

著者名

中村, 貴幸

著者別名

ナカムラ, キコウ

学位授与大学

名古屋大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第3259号

学位授与年月日

1987-09-30

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000021841
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000021866
  • NDL書誌ID
    • 000000186155
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
ページトップへ