HeLa S3細胞に対するフッ素化合物添加の歯科用セメントの影響(in vitro)

この論文をさがす

著者

    • 坂口, 喜史夫 サカグチ, キシオ

書誌事項

タイトル

HeLa S3細胞に対するフッ素化合物添加の歯科用セメントの影響(in vitro)

著者名

坂口, 喜史夫

著者別名

サカグチ, キシオ

学位授与大学

大阪歯科大学

取得学位

歯学博士

学位授与番号

乙第807号

学位授与年月日

1985-06-12

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000022429
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000022457
  • NDL書誌ID
    • 000000186743
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
ページトップへ