Deposition of boron and boron nitride films by plasma assisted chemical transport processes プラズマ化学輸送法によるホウ素および窒化ホウ素薄膜の堆積に関する研究

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著者

    • 小松, 正二郎 コマツ, ショウジロウ

書誌事項

タイトル

Deposition of boron and boron nitride films by plasma assisted chemical transport processes

タイトル別名

プラズマ化学輸送法によるホウ素および窒化ホウ素薄膜の堆積に関する研究

著者名

小松, 正二郎

著者別名

コマツ, ショウジロウ

学位授与大学

東京大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

甲第7077号

学位授与年月日

1986-03-29

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000024579
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000024612
  • NDL書誌ID
    • 000000188893
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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