Development and application of new synthetic methods utilizing cathodic reduction of halogenated compounds ハロゲン化合物の陰極還元を利用した新しい合成法の開発と応用

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著者

    • 木瀬, 直樹 キセ, ナオキ

書誌事項

タイトル

Development and application of new synthetic methods utilizing cathodic reduction of halogenated compounds

タイトル別名

ハロゲン化合物の陰極還元を利用した新しい合成法の開発と応用

著者名

木瀬, 直樹

著者別名

キセ, ナオキ

学位授与大学

京都大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第6404号

学位授与年月日

1988-01-23

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 (8コマ目)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000028403
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000028450
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000192717
  • データ提供元
    • NDL ONLINE
    • NDLデジタルコレクション
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