Characterization and low temperature annealing of ion-implanted semiconductors イオン・インプランテーションをした半導体の特性と低温度熱処理

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Author

    • 六倉, 信喜 ムツクラ, ノブキ

Bibliographic Information

Title

Characterization and low temperature annealing of ion-implanted semiconductors

Other Title

イオン・インプランテーションをした半導体の特性と低温度熱処理

Author

六倉, 信喜

Author(Another name)

ムツクラ, ノブキ

University

東京電機大学

Types of degree

工学博士

Grant ID

甲第9号

Degree year

1984-03-09

Note and Description

博士論文

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000028811
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000028860
  • NDLBibID
    • 000000193125
  • Source
    • NDL ONLINE

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