Studies on catalytic properties of metal thin films prepared by RF sputtering method RFスパッタリング法により調製した金属薄膜の触媒作用に関する研究

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著者

    • 玉置, 純 タマキ, ジュン

書誌事項

タイトル

Studies on catalytic properties of metal thin films prepared by RF sputtering method

タイトル別名

RFスパッタリング法により調製した金属薄膜の触媒作用に関する研究

著者名

玉置, 純

著者別名

タマキ, ジュン

学位授与大学

大阪大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

甲第3797号

学位授与年月日

1988-03-25

注記・抄録

博士論文

08207

博士(工学)

1988-03-25

大阪大学

14401甲第03797号

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000032729
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000032785
  • NDL書誌ID
    • 000000197043
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
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