Ni/SiO[x]/Si(111)及びNi/Si(111)を用いたCOの吸着と解離の制御に関する研究

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著者

    • 淺川, 哲夫 アサカワ, テツオ

書誌事項

タイトル

Ni/SiO[x]/Si(111)及びNi/Si(111)を用いたCOの吸着と解離の制御に関する研究

著者名

淺川, 哲夫

著者別名

アサカワ, テツオ

学位授与大学

北海道大学

取得学位

理学博士

学位授与番号

甲第2427号

学位授与年月日

1988-03-25

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000033885
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000033945
  • NDL書誌ID
    • 000000198199
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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