シリコンへのチャネリングイオン注入に関する研究

この論文にアクセスする

この論文をさがす

著者

    • 古谷, 恒男 フルヤ, ツネオ

書誌事項

タイトル

シリコンへのチャネリングイオン注入に関する研究

著者名

古谷, 恒男

著者別名

フルヤ, ツネオ

学位授与大学

大阪大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第3297号

学位授与年月日

1984-02-01

注記・抄録

博士論文

06301

博士(工学)

1984-02-01

大阪大学

14401乙第03297号

0アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000035068
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000035129
  • NDL書誌ID
    • 000000199382
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
ページトップへ