プラズマCVD窒化シリコン薄膜のGaAs集積回路への応用に関する研究

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著者

    • 石井, 康信 イシイ, ヤスノブ

書誌事項

タイトル

プラズマCVD窒化シリコン薄膜のGaAs集積回路への応用に関する研究

著者名

石井, 康信

著者別名

イシイ, ヤスノブ

学位授与大学

大阪大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第3312号

学位授与年月日

1984-02-27

注記・抄録

博士論文

06317

博士(工学)

1984-02-27

大阪大学

14401乙第03312号

2アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000035083
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000035144
  • NDL書誌ID
    • 000000199397
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
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