齲蝕予防に用いるチキソトロピー性フッ化物ゲルの物理化学的特性に関する研究

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著者

    • 大村, 貴志江 オオムラ, キシエ

書誌事項

タイトル

齲蝕予防に用いるチキソトロピー性フッ化物ゲルの物理化学的特性に関する研究

著者名

大村, 貴志江

著者別名

オオムラ, キシエ

学位授与大学

東京歯科大学

取得学位

歯学博士

学位授与番号

甲第399号

学位授与年月日

1985-04-08

注記・抄録

博士論文

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000039806
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000039878
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000204120
  • データ提供元
    • NDL ONLINE
    • NDLデジタルコレクション
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