HR-CVD法(Hydrogen Radical Enhanced CVD法)によるSi膜の作製と特性評価に関する研究

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著者

    • 柴田, 直樹 シバタ, ナオキ

書誌事項

タイトル

HR-CVD法(Hydrogen Radical Enhanced CVD法)によるSi膜の作製と特性評価に関する研究

著者名

柴田, 直樹

著者別名

シバタ, ナオキ

学位授与大学

東京工業大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

甲第1941号

学位授与年月日

1988-03-26

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000040716
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000040789
  • NDL書誌ID
    • 000000205030
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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