CZ法シリコン結晶育成における酸素濃度制御に関する研究

この論文をさがす

著者

    • 干川, 圭吾 ホシカワ, ケイゴ

書誌事項

タイトル

CZ法シリコン結晶育成における酸素濃度制御に関する研究

著者名

干川, 圭吾

著者別名

ホシカワ, ケイゴ

学位授与大学

東京工業大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第1687号

学位授与年月日

1987-05-31

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000040752
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000040825
  • NDL書誌ID
    • 000000205066
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
ページトップへ