CVDおよびMBE法によるSiエピタキシャル成長に関する研究

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著者

    • 田部, 道晴 タベ, ミチハル

書誌事項

タイトル

CVDおよびMBE法によるSiエピタキシャル成長に関する研究

著者名

田部, 道晴

著者別名

タベ, ミチハル

学位授与大学

慶応義塾大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第1528号

学位授与年月日

1984-03-16

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000041731
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000041806
  • NDL書誌ID
    • 000000206045
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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