Studies on multilayer epitaxial growth of BP-Si on Si substrate and its application to devices Si基板上へのBP-Siの多層気相成長とデバイスへの応用に関する研究

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著者

    • 金, 鉄柱 キム, チョルジュ

書誌事項

タイトル

Studies on multilayer epitaxial growth of BP-Si on Si substrate and its application to devices

タイトル別名

Si基板上へのBP-Siの多層気相成長とデバイスへの応用に関する研究

著者名

金, 鉄柱

著者別名

キム, チョルジュ

学位授与大学

東海大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

甲第42号

学位授与年月日

1984-03-25

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000041846
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000041921
  • NDL書誌ID
    • 000000206160
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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