分子線レーザー分光法による分子衝突過程の研究

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著者

    • 本宮, 佳典 ホングウ, ヨシノリ

書誌事項

タイトル

分子線レーザー分光法による分子衝突過程の研究

著者名

本宮, 佳典

著者別名

ホングウ, ヨシノリ

学位授与大学

東京大学

取得学位

理学博士

学位授与番号

甲第6345号

学位授与年月日

1984-03-29

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000042368
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000042443
  • NDL書誌ID
    • 000000206682
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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