Preparation and characterization of heteroepitaxial semiconductor films ヘテロエピタキシアル半導体薄膜の作製及び特性評価

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著者

    • 西林, 良樹 ニシバヤシ, ヨシキ

書誌事項

タイトル

Preparation and characterization of heteroepitaxial semiconductor films

タイトル別名

ヘテロエピタキシアル半導体薄膜の作製及び特性評価

著者名

西林, 良樹

著者別名

ニシバヤシ, ヨシキ

学位授与大学

広島大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

甲第711号

学位授与年月日

1988-03-24

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000045752
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000045835
  • NDL書誌ID
    • 000000210066
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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