Studies of oxidation-induced stacking faults in silicon シリコン結晶の熱酸化積層欠陥の研究

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著者

    • 早藤, 貴範 ハヤフジ, ヨシノリ

書誌事項

タイトル

Studies of oxidation-induced stacking faults in silicon

タイトル別名

シリコン結晶の熱酸化積層欠陥の研究

著者名

早藤, 貴範

著者別名

ハヤフジ, ヨシノリ

学位授与大学

関西学院大学

取得学位

理学博士

学位授与番号

乙第101号

学位授与年月日

1984-03-27

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000050680
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000050791
  • NDL書誌ID
    • 000000214994
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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