スパッタリングによる薄膜の形成とシリコンMOS半導体素子への応用に関する研究 スパッタリング ニヨル ウスマク ノ ケイセイ ト シリコン MOS ハンドウタイ ソシ ヘ ノ オウヨウ ニ カンスル ケンキュウ

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著者

    • 芹川, 正 セリカワ, タダシ

書誌事項

タイトル

スパッタリングによる薄膜の形成とシリコンMOS半導体素子への応用に関する研究

タイトル別名

スパッタリング ニヨル ウスマク ノ ケイセイ ト シリコン MOS ハンドウタイ ソシ ヘ ノ オウヨウ ニ カンスル ケンキュウ

著者名

芹川, 正

著者別名

セリカワ, タダシ

学位授与大学

大阪大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第3426号

学位授与年月日

1984-07-18

注記・抄録

博士論文

06568

博士(工学)

1984-07-18

大阪大学

14401乙第03426号

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000050697
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000050808
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000000215011
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
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