シリコン素子技術におけるイオンビームの応用

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Author

    • 中村, 邦雄 ナカムラ, クニオ

Bibliographic Information

Title

シリコン素子技術におけるイオンビームの応用

Author

中村, 邦雄

Author(Another name)

ナカムラ, クニオ

University

東京大学

Types of degree

工学博士

Grant ID

乙第8465号

Degree year

1987-07-09

Note and Description

博士論文

Table of Contents

  1. 目次 (3コマ目)
0access

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000051428
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000051543
  • DOI(NDL)
  • NDLBibID
    • 000000215742
  • Source
    • NDL ONLINE
    • NDL Digital Collections
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