シリコン中の不純物拡散機構の研究

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著者

    • 西, 謙二 ニシ, ケンジ

書誌事項

タイトル

シリコン中の不純物拡散機構の研究

著者名

西, 謙二

著者別名

ニシ, ケンジ

学位授与大学

東京大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第8733号

学位授与年月日

1988-02-25

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000051696
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000051812
  • NDL書誌ID
    • 000000216010
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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