高精度・高品質Si気相エピタキシャル成長

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著者

    • 鈴木, 誉也 スズキ, タカヤ

書誌事項

タイトル

高精度・高品質Si気相エピタキシャル成長

著者名

鈴木, 誉也

著者別名

スズキ, タカヤ

学位授与大学

東北大学

取得学位

工学博士

学位授与番号

乙第4865号

学位授与年月日

1989-01-11

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000053283
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000053401
  • NDL書誌ID
    • 000000217597
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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