高精度・高品質Si気相エピタキシャル成長

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Author

    • 鈴木, 誉也 スズキ, タカヤ

Bibliographic Information

Title

高精度・高品質Si気相エピタキシャル成長

Author

鈴木, 誉也

Author(Another name)

スズキ, タカヤ

University

東北大学

Types of degree

工学博士

Grant ID

乙第4865号

Degree year

1989-01-11

Note and Description

博士論文

Table of Contents

  1. 目次 (4コマ目)
0access

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000053283
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000053401
  • DOI(NDL)
  • NDLBibID
    • 000000217597
  • Source
    • NDL ONLINE
    • NDL Digital Collections

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