Low temperature growth of SiO[2] thin film by direct-excitation photo-induced CVD using VUV light 真空紫外光直接励起型光CVD法によるSiO[2]膜の低温成長に関する研究
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書誌事項
- タイトル
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Low temperature growth of SiO[2] thin film by direct-excitation photo-induced CVD using VUV light
- タイトル別名
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真空紫外光直接励起型光CVD法によるSiO[2]膜の低温成長に関する研究
- 著者名
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井上, 幸二
- 著者別名
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イノウエ, コウジ
- 学位授与大学
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大阪大学
- 取得学位
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工学博士
- 学位授与番号
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甲第3964号
- 学位授与年月日
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1989-03-24
注記・抄録
博士論文
目次
- 目次 (10コマ目)
